燃烧法总有机碳(TOC)分析仪

燃烧法总有机碳(TOC)分析仪应用范围1、制药行业清洁验证2、自来水、地表水、江河、湖泊水3、生活污水、工业废水4、化工用水(清洗水、冷却水、回收水等)5、实验室科研燃烧法总有机碳(TOC)分析仪7英寸触摸屏,人性化界面,操作简单便捷;三管程电子冷凝脱水技术,确保整个系统的脱水效率;高反射的镀金气室、高聚光的红外光源及高灵敏的红外探测器,保证NDIR优异的性能,测量ppb级的数据具有足够的灵敏度和准确度;温度可达1100℃,可根据样品选择不同的催化剂(如CeO、Pt,CuO)和设置不同的温度;检测曲线实时可见,更直观;液体样品自动进样,精密的电磁计量泵,保证进样量的准确性和稳定性;多处温度、压力、流量实时自我监测;燃烧炉加热采用多重保护,过热能自动切断加热,提高产品安全性能;无机碳反应池设计有加热装置,消除了样品峰的拖尾,缩短了样品测定时间;内置针式打印机,减少占用空间;2年数据存储量,查询方便,并可按时间段查询;具有密码保护功能;可选配在线模块,实现在线监测;可选配自动取样仪,实现无人值守,节约人力和时间;可配置固体进样器,对固体样品进样舟进样;符合国际标准ISO8245、中华人民共和国国家环境保护标准HJ501-2009、中华人民共和国国家计量检定规程JJG 821-2005。

‍

电子工业与超纯水

在半导体制作工艺中,80%以上的工序要经过化学处理,而每-道化学处理都离不开超纯水;  在硅片的处理工序中,一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程,此时如 水中含有杂质便会进入硅片,造成器件性能下降成品率低。

电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ .cm  ( 25℃) ,已极其接近理论纯水水质 18.3 MΩ .cm (25℃) 。对电解质、DO 、TOC 、SIO2 、颗粒及细菌等技术指标提出更高要求。如 256  兆  位的动态随机储存器生产工艺,光刻线条宽已达 0.1  微米,要保证这一指标,超纯水中颗粒 径就得≤0.05μm ,而且 20.05μm  不得超过 500 个/升超纯水。

制备超纯水的水源

由于水是一种溶解能力很强的溶剂,因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有 CO2,还有 胶体(包括硅胶和腐殖质胶体) ,天然水中还存在大量的非溶解性质,包括粘土、砂石、细 菌、微生物、藻类、浮游生物、热源等等。

‍